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Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar

begründet von Eduard Reimer. -- 3., erweiterte und neubearbeitete Aufl. -- C. Heymanns, 1968. <BB00033705>
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Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar

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No. 巻冊次等 配置場所 運用 資料形態 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 自動書庫 507.2||R 00155181 0件
No. 0001
巻冊次等
配置場所 自動書庫
運用
資料形態
請求記号 507.2||R
資料ID 00155181
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar / begründet von Eduard Reimer
版事項 3., erweiterte und neubearbeitete Aufl / von Karl Nastelski ... [et al.]
出版・頒布事項 Köln : C. Heymanns , 1968
形態事項 xxx, 2505 p. ; 24 cm
学情ID BA19109439
本文言語コード ドイツ語
著者標目リンク Reimer, Eduard <AU00143271>
著者標目リンク Karl, Nastelski <AU00143272>
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